بر اساس گزارش های چندین رسانه، در 8 اکتبر به وقت شرقی ایالات متحده، Nvidia، یک تولید کننده بزرگ تراشه های هوش مصنوعی، بر دستاوردهای همکاری با TSMC در زمینه محاسبات شتاب دهنده تاکید کرد:پلتفرم لیتوگرافی کامپیوتری آن به نام cuLitho توسط TSMC در حال تولید است.
"نویدیا" گفت که "کو لیتو" سرعت محاسبات را در زمینه "لیتوگرافی محاسباتی" افزایش می دهد.و اینکه وارد کردن "کولیتو" به تولید، به "تس ام سی" امکان می دهد توسعه نسل بعدی تکنولوژی تراشه را تسریع کند.، در حالی که فرآیند تولید فعلی به محدودیت های فیزیک نزدیک می شود.استفاده TSMC از cuLitho برای تولید می تواند سرعت تولید نسل بعدی تراشه های نیمه هادی پیشرفته را افزایش دهد و از محدودیت های فیزیکی عبور کند.
در مارس 2023 ، Nvidia معرفی محاسبات تسریع شده را در لیتوگرافی محاسباتی اعلام کرد ، که شرکت های نیمه هادی مانند ASML را قادر می سازدTSMC و Synopsys برای تسریع در طراحی و تولید تراشه های نسل بعدی.
NVIDIA cuLitho is a library of optimized tools and algorithms for GPU-accelerated computational lithography and semiconductor manufacturing processes that are orders of magnitude faster than current CPU-based methods.
به گفته مقامات، cuLitho ارائه می دهد 40 برابر بهبود عملکرد نسبت به لیتوگرافی فعلی (فرایندهای ایجاد الگوها در سیلیکون) زمانی که در GPU اجرا می شود،سرعت بخشیدن به حجم گسترده کار محاسباتی که در حال حاضر ده ها میلیارد ساعت CPU در سال مصرف می کننداین امکان را به 500 سیستم NVIDIA DGX H100 می دهد تا کار 40،000 سیستم پردازنده را انجام دهد و تمام قسمت های فرآیند لیتوگرافی محاسباتی را به طور موازی اجرا کند.کمک به کاهش نیاز به انرژی و تاثیرات بالقوه زیست محیطی.
در کوتاه مدت، یک کارخانه با استفاده از cuLitho می تواند ۳ تا ۵ برابر بیشتر از ماسک های عکاسی (نمونه های طراحی تراشه) در روز تولید کند و ۹ برابر کمتر از پیکربندی فعلی مصرف کند.یک ماسک عکاسی که قبلا دو هفته طول می کشید، اکنون می تواند در یک شب پردازش شوددر درازمدت، cuLitho قوانین طراحی بهتر، تراکم بالاتر، بهره وری بالاتر و لیتوگرافی هوش مصنوعی را امکان پذیر می کند.
"صنعت تراشه ها پایه و اساس تقریبا تمام صنایع دیگر در جهان است" گفت Huang Renxun، مدیر عامل Nvidia در آن زمان.NVIDIA راه اندازی cuLitho و شرکای TSMC، ASML و Synopsys برای فعال کردن کارخانه ها برای افزایش تولید، کاهش اثرگاه کربن و ایجاد پایه برای 2 نانومتر و فراتر از آن.